操纵射频天线在放电腔内经由进程感到耦合产生高密度等离子体。同时，将射频偏置压力引入蚀刻任务台。在射频偏置压力的感化下，等离子体垂直向下物理轰击未笼盖的蚀刻资料外表，与资料外表产生化学反映，完成化学与物理蚀刻样品的连系。

装备布局：

感到耦合等离子刻蚀机首要由高真空蚀刻室构成。真空收罗体系。真空丈量体系。恒压体系。电源体系。感到耦合电极和平均气体体系。射频偏压电极。水冷电梯。气体回路体系。电气和主动节制体系。宁静和主动报警体系。

用处和特色：

装备合用于大学研讨机构和企业研发机构通用感到耦合等离子体蚀刻的迷信研讨和讲授。

感到耦合等离子刻蚀机具备普遍的蚀刻资料，包含但不限于单晶硅。非晶硅。

接纳气体离化率高、等离子体密度高的新型柱状耦合电极布局。

合用于差别的在线主动调剂和差别的工艺特色。

接纳主动压力节制体系，蚀刻进程加倍不变。

装备的首要手艺目标：

腔体尺寸：φ300mm*H300mm，铝桶形程度布局氧化，上盖主动开闭。

极限真空度：5×10-4pa；

体系泄露：5×10-7pa/s；

静态升压：体系停泵12小时后，真空度≤5pa。

体系进入清洁枯燥的N2，以减缓真空。短时候裸露大气后，泵送×10-3pa时候小于20min，至9×10-4pa≤40min。

射频阴极尺寸：200mm。

蚀刻平均性：≤5%(φ6英寸)。