<option id='2xp3j'></option><select id='2xp3j'><span id='2xp3j'><form id='2xp3j'></form></span><dd id='2xp3j'></dd></select><dt id='2xp3j'></dt><style id='2xp3j'><big id='2xp3j'><i id='2xp3j'></i><tbody id='2xp3j'></tbody></big></style><abbr id='2xp3j'></abbr>
公司、研讨所用户：
王总： 139-1055-5133
大专院校用户：
初司理：132-6456-0630
企业邮箱：chuangshiweina@sina.com
地点：北京市昌平区回龙观北京国际信息财产园高新二街2号4层
特色： 负角度刻蚀下降反净化，热态、冷态两种中和体系，腔体前后开门 利用标的目的：科研与讲授产物上风：负角度刻蚀下降反净化，热
特色： 负角度片状样品刻蚀，冷态中和体系 利用标的目的：科研与讲授产物上风：负角度刻蚀，冷态中和体系 产物设置装备摆设：★离子源品种：考夫曼离子源
特色：反映离子束刻蚀装备，离子束物理刻蚀才能+化学反映才能+化学帮助刻蚀才能利用标的目的：科研与讲授产物上风：离子束物理刻蚀才能+化学反映才能
特色： 负角度片状+棒状样品刻蚀，冷态中和体系，刻蚀大尺寸样品 利用标的目的：科研与小批量出产产物上风：负角度片状+棒状样品刻蚀，冷态中
特色：反映离子束刻蚀装备，离子束物理刻蚀才能+化学反映才能+化学帮助刻蚀才能 利用标的目的：科研与讲授产物上风：离子束物理刻蚀才能+化学反映能
