称号：DISC-ICP-601:耐氟基或更弱气体侵蚀

利用标的目的：科研与讲授

产物上风：耐氟基或更弱侵蚀性气体

产物设置装备摆设：

★样片数目及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蚀资料：包罗并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

★刻蚀腔体：高真空体系

★刻蚀不平均性：±3%-±6%

★刻蚀速度：0.1-4μm/min（视具体资料与工艺）

★任务台：可起落，包罗水冷

★电源设置装备摆设：上电极射频，下电极偏压，包罗主动婚配

★气路数目与品种：6路耐氟基侵蚀气路 或 用户选配

★深硅刻蚀体系：可选配

★He冷背吹体系：可选配

★起点检测节制：可选配质谱仪

★操纵形式：全主动+半主动节制

装备具体布局与功效，请征询发卖工程师。